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Implantation ionique et traitements thermiques en technologie silicium



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Éditeur :

Hermés science


Collection :

Traité EGEM - Série Electronique et micro-électronique

Paru le : 2011-02-14



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Description
Cet ouvrage propose au lecteur une vision de l'élaboration des couches actives, modifiant la structure de surface du substrat silicium massif : principes de base, mise en applications en fonction des filières technologiques, limites et contraintes, avec un focus sur les dernières avancées. Son objectif n'est pas de faire le tour de la question pour tous les procédés élémentaires d'un assemblage technologique, mais de rappeler les données essentielles et fondamentales seulement pour les procédés qui visent à utiliser et à améliorer les propriétés du matériau ou du semi-conducteur silicium, tant pour les composants électroniques que pour les microsystèmes. Sont ainsi développés l'oxydation silicium, l'implantation ionique, la diffusion et l'épitaxie d'hétérostructures.
Pages
364 pages
Collection
Traité EGEM - Série Electronique et micro-électronique
Parution
2011-02-14
Marque
Hermés science
EAN papier
9782746231306
EAN PDF SANS DRM
9782746241558
Informations sur l'ebook
Ce livre est accessible aux handicaps Voir les informations sur l'accessibilité
Prix
97,99 €

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